裝置簡介

裝置由紫外焦平面陣列響應率校準裝置、響應率非均勻性校準裝置、相對光譜響應校準裝置、調制傳遞函數校準裝置組成。裝置采用替代法測量紫外焦平面陣列的相對光譜響應；采用刀口掃描法測量紫外焦平面陣列的調制傳遞函數。

主要用途

裝置主要用于紫外焦平面陣列器件響應率、響應非均勻性、相對光譜響應、調制傳遞函數等特性參數的計量校準。

主要技術指標

波長范圍：250nm～400nm

響應率測量不確定度：6%（k=2）

響應非均勻性測量不確定度：3%（k=2）

相對光譜響應測量不確定度：5%（k=2）

    調制傳遞函數測量不確定度：0.12（k=2）