裝置簡介
裝置由高均勻性積分球、光源控制器、三維電控位移臺、數據采集系統、計算機及測控軟件等部分組成。采用積分球均勻光輻射法測量CCD器件響應度非均勻性。
主要用途
主要用于軍用、科學級及商用可見光CCD器件響應度非均勻性的測量。
主要技術指標
波長范圍:400nm~1100nm
非均勻性測量不確定度:0.6%(k=2)